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半導体めっき装置のグローバル市場(2023-2031年):全自動、半自動、手動

• 英文タイトル:Semiconductor Plating System Market (Type: Fully Automatic, Semi-automatic, and Manual; and Technology: Electroplating and Electroless) - Global Industry Analysis, Size, Share, Growth, Trends, and Forecast, 2023-2031

Transparency Market Researchが調査・発行した産業分析レポートです。半導体めっき装置のグローバル市場(2023-2031年):全自動、半自動、手動 / Semiconductor Plating System Market (Type: Fully Automatic, Semi-automatic, and Manual; and Technology: Electroplating and Electroless) - Global Industry Analysis, Size, Share, Growth, Trends, and Forecast, 2023-2031 / MRC2307A0142資料のイメージです。• レポートコード:MRC2307A0142
• 出版社/出版日:Transparency Market Research / 2023年5月
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• レポート形態:英文、PDF、168ページ
• 納品方法:Eメール
• 産業分類:電子&半導体
• 販売価格(消費税別)
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レポート概要
Transparency Market Research社の本報告書は、世界の半導体めっき装置市場規模が、2023年の51億ドルから予測期間中、年平均4.8%で成長し、2031年には77億ドルに達すると予測しています。本書は、序論、エグゼクティブサマリー、市場動向、関連産業&主要指標分析、種類別(全自動、半自動、手動)、技術別(電気めっき、無電解めっき)分析、ウェーハサイズ別(100mm以下、100mm~200mm、200mm以上)分析、用途別(TSV、銅柱、再配布層(RDL)、アンダーバンプメタライゼーション(UBM)、その他)分析、地域別(北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中東・アフリカ、南米)分析、競争状況などの構成でまとめています。なお、当市場の主要企業には、ACM Research, Inc.、Applied Materials, Inc.、ASMPT、ClassOne Technology, Inc.、EBARA Technologies, Inc.、Hitachi Power Solutions Co., Ltd.、LAM RESEARCH CORPORATION、MITOMO SEMICON ENGINEERING CO., LTD.、RENA Technologies、TANAKA HOLDINGS Co., Ltd.などがあります。
・序論
・エグゼクティブサマリー
・市場動向
・関連産業&主要指標分析
・世界の半導体めっき装置市場規模:種類別
- 全自動半導体めっき装置の市場規模
- 半自動半導体めっき装置の市場規模
- 手動半導体めっき装置の市場規模
・世界の半導体めっき装置市場規模:技術別
- 電気めっき技術の市場規模
- 無電解めっき技術の市場規模
・世界の半導体めっき装置市場規模:ウェーハサイズ別
- 100mm以下の市場規模
- 100mm~200mmの市場規模
- 200mm以上の市場規模
・世界の半導体めっき装置市場規模:用途別
- TSVにおける市場規模
- 銅柱における市場規模
- 再配布層(RDL)における市場規模
- アンダーバンプメタライゼーション(UBM)における市場規模
- その他用途における市場規模
・世界の半導体めっき装置市場規模:地域別
- 北米の半導体めっき装置市場規模
- ヨーロッパの半導体めっき装置市場規模
- アジア太平洋の半導体めっき装置市場規模
- 中東・アフリカの半導体めっき装置市場規模
- 南米の半導体めっき装置市場規模
・競争状況

TMRのレポートでは、世界の半導体メッキシステム市場について、過去および現在の成長トレンドと機会を調査し、2023年から2031年までの予測期間における市場の指標についての貴重な洞察を提供します。レポートでは、2017年から2031年までの期間における市場の収益を考慮し、2023年を基準年、2031年を予測年として設定しています。また、2023年から2031年までの間の年平均成長率(CAGR)の情報も提供します。

レポートは広範な研究に基づいており、主に主要な意見リーダーや業界リーダーとのインタビューを通じた一次調査が中心です。二次調査では、主要プレーヤーの製品文献、年次報告書、プレスリリース、関連文書を参照し、市場を理解するための情報を収集しています。また、インターネット資源や政府機関の統計データ、ウェブサイト、業界団体の情報も活用しています。アナリストたちは、トップダウンおよびボトムアップのアプローチを組み合わせて、世界の半導体メッキシステム市場のさまざまな属性を研究しています。

レポートには、詳細なエグゼクティブサマリーが含まれており、研究の範囲に含まれるさまざまなセグメントの成長動向のスナップショットが提供されています。また、世界の半導体メッキシステム市場における競争動向の変化にも焦点を当てており、これらは市場の既存プレーヤーや新規参入者にとって貴重なツールとなります。

レポートは、世界の半導体メッキシステム市場の競争環境を詳しく分析しており、主要プレーヤーが特定され、それぞれの企業について、企業概要、財務状況、最近の発展、SWOT分析などの属性がプロファイルされています。

レポートでは、以下のような主要な質問に対する回答が提供されます:
– 予測期間中に、地域ごとに生成された半導体メッキシステムの売上/収益はどのくらいか?
– 世界の半導体メッキシステム市場における機会は何か?
– 市場における主要な推進要因、制約、機会、脅威は何か?
– 予測期間中に最も高いCAGRで成長する地域市場はどこか?
– 2031年に世界で最も高い収益を生成するセグメントはどれか?
– 予測期間中に最も高いCAGRで成長すると予測されるセグメントはどれか?
– 世界市場で活動するさまざまな企業の市場ポジションはどうか?

レポートは、世界の半導体メッキシステム市場の製品、エンドユーザー、地域に基づいて分析しています。各基準の下にある主要なセグメントが詳細に研究されており、2031年の終わりまでの市場シェアが提供されています。このような貴重な洞察は、市場の利害関係者がグローバルな半導体メッキシステム市場への投資に関して情報に基づいたビジネス決定を行うのに役立ちます。

レポート目次

1. 序文
1.1. 市場およびセグメントの定義
1.2. 市場分類
1.3. 調査方法論
1.4. 仮定および略語
2. エグゼクティブサマリー
2.1. 世界の半導体めっき装置市場概要
2.2. 地域別概要
2.3. 業界概要
    2.4. 市場動向の概要
2.5. 競争構造
3. 市場動向
3.1. マクロ経済的要因
3.2. 推進要因
3.3. 抑制要因
3.4. 機会
3.5. 主要トレンド
3.6. 規制枠組み
4. 関連産業および主要指標評価
4.1. 親産業概要 – グローバル半導体産業概要
4.2. サプライチェーン分析
4.3. 価格分析
4.4. 技術ロードマップ
4.5. 産業SWOT分析
4.6. ポーターの5つの力分析
5. グローバル半導体めっき装置市場分析(タイプ別)
    5.1. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億台)分析・予測(タイプ別、2017-2031年)
5.1.1. 全自動
5.1.2. 半自動
5.1.3. 手動
    5.2. タイプ別市場魅力度分析
6. 技術別グローバル半導体めっき装置市場分析
6.1. 技術別半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析及び予測、2017-2031年
6.1.1. 電気めっき
6.1.2. 無電解めっき
    6.2. 技術別市場魅力度分析
7. ウェーハサイズ別グローバル半導体めっき装置市場分析
7.1. ウェーハサイズ別半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析と予測、2017-2031年
        7.1.1. 100 mm以下
7.1.2. 100 mm~200 mm
7.1.3. 200 mm超
    7.2. 市場魅力度分析(ウェーハサイズ別)
8. グローバル半導体めっき装置市場分析(用途別)
8.1. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析及び予測(用途別、2017-2031年)
8.1.1. TSV
        8.1.2. 銅ピラー
8.1.3. 再配線層(RDL)
8.1.4. アンダーバンプメタライゼーション(UBM)
8.1.5. バンプ形成
8.1.6. その他
8.2. 用途別市場魅力度分析
9. 地域別グローバル半導体めっき装置市場分析と予測
9.1. 地域別半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析と予測、2017-2031年
9.1.1. 北米
9.1.2. 欧州
9.1.3. アジア太平洋
9.1.4. 中東・アフリカ
9.1.5. 南米
    9.2. 地域別市場魅力度分析
10. 北米半導体めっき装置市場分析と予測
10.1. 市場概要
10.2. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億台)分析・予測、タイプ別、2017-2031年
        10.2.1. 全自動
10.2.2. 半自動
10.2.3. 手動
10.3. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析と予測、技術別、2017-2031年
10.3.1. 電気めっき
10.3.2. 無電解めっき
10.4. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、ウェーハサイズ別、2017-2031年
10.4.1. 100 mm以下
        10.4.2. 100 mm~200 mm
10.4.3. 200 mm超
10.5. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、用途別、2017-2031年
10.5.1. TSV
        10.5.2. 銅ピラー
10.5.3. 再配線層(RDL)
10.5.4. アンダーバンプメタライゼーション(UBM)
10.5.5. バンプ形成
10.5.6. その他
10.6. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析と予測、国およびサブ地域別、2017-2031年
10.6.1. 米国
10.6.2. カナダ
10.6.3. 北米その他
    10.7. 市場魅力度分析
10.7.1. タイプ別
10.7.2. 技術別
10.7.3. ウェーハサイズ別
10.7.4. 用途別
10.7.5. 国・サブ地域別
11. 欧州半導体めっき装置市場分析と予測
11.1. 市場概要
11.2. 推進要因と抑制要因:影響分析
11.3. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億台)分析・予測(タイプ別、2017-2031年)
        11.3.1. 全自動
11.3.2. 半自動
11.3.3. 手動
11.4. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析と予測、技術別、2017-2031年
        11.4.1. 電気めっき
11.4.2. 無電解めっき
11.5. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、ウェーハサイズ別、2017-2031年
        11.5.1. 100 mm以下
11.5.2. 100 mm~200 mm
11.5.3. 200 mm超
11.6. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析と予測、用途別、2017-2031年
11.6.1. TSV
11.6.2. 銅ピラー
11.6.3. 再配線層(RDL)
11.6.4. アンダーバンプメタライゼーション(UBM)
11.6.5. バンプ形成
11.6.6. その他
11.7. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析・予測、国・地域別、2017-2031年
        11.7.1. イギリス
11.7.2. ドイツ
11.7.3. フランス
11.7.4. その他の欧州
11.8. 市場魅力度分析
11.8.1. タイプ別
        11.8.2. 技術別
11.8.3. ウェーハサイズ別
11.8.4. 用途別
11.8.5. 国・サブ地域別
12. アジア太平洋半導体めっき装置市場分析と予測
12.1. 市場概要
    12.2. 推進要因と抑制要因:影響分析
12.3. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億台)分析・予測(タイプ別、2017-2031年)
12.3.1. 全自動
12.3.2. 半自動式
12.3.3. 手動式
12.4. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析と予測、技術別、2017-2031年
12.4.1. 電気めっき
12.4.2. 無電解めっき
12.5. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、ウェーハサイズ別、2017-2031年
12.5.1. 100mm以下
12.5.2. 100mm~200mm
12.5.3. 200mm超
    12.6. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、用途別、2017-2031年
12.6.1. TSV
        12.6.2. 銅ピラー
12.6.3. 再配線層(RDL)
12.6.4. アンダーバンプメタライゼーション(UBM)
12.6.5. バンプ形成
12.6.6. その他
12.7. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析・予測、国別・サブ地域別、2017-2031年
        12.7.1. 中国
12.7.2. 日本
12.7.3. インド
12.7.4. 韓国
12.7.5. ASEAN
12.7.6. アジア太平洋その他
12.8. 市場魅力度分析
12.8.1. タイプ別
12.8.2. 技術別
12.8.3. ウェーハサイズ別
12.8.4. 用途別
12.8.5. 国・サブ地域別
13. 中東・アフリカ半導体めっき装置市場分析と予測
13.1. 市場概要
13.2. 推進要因と抑制要因:影響分析
13.3. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析と予測、タイプ別、2017-2031年
        13.3.1. 全自動
13.3.2. 半自動
13.3.3. 手動
13.4. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、技術別、2017-2031年
        13.4.1. 電気めっき
13.4.2. 無電解めっき
13.5. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、ウェーハサイズ別、2017-2031年
13.5.1. 100mm以下
        13.5.2. 100 mm~200 mm
13.5.3. 200 mm超
13.6. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、用途別、2017-2031年
13.6.1. TSV
        13.6.2. 銅ピラー
13.6.3. 再配線層(RDL)
13.6.4. アンダーバンプメタライゼーション(UBM)
13.6.5. バンプ形成
13.6.6. その他
13.7. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析と予測、国およびサブ地域別、2017-2031年
13.7.1. GCC
13.7.2. 南アフリカ
13.7.3. 中東・アフリカその他
    13.8. 市場魅力度分析
13.8.1. タイプ別
13.8.2. 技術別
13.8.3. ウェーハサイズ別
13.8.4. 用途別
13.8.5. 国・サブ地域別
14. 南米半導体めっき装置市場分析と予測
14.1. 市場概要
14.2. 推進要因と抑制要因:影響分析
14.3. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)および数量(10億台)分析と予測、タイプ別、2017-2031年
        14.3.1. 全自動
14.3.2. 半自動
14.3.3. 手動
14.4. 半導体めっき装置市場規模(10億米ドル)分析と予測、技術別、2017-2031年
        14.4.1. 電気めっき
14.4.2. 無電解めっき
14.5. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、ウェーハサイズ別、2017-2031年
14.5.1. 100mm以下
        14.5.2. 100 mm~200 mm
14.5.3. 200 mm超
14.6. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)分析と予測、用途別、2017-2031年
14.6.1. TSV
        14.6.2. 銅ピラー
14.6.3. 再配線層(RDL)
14.6.4. アンダーバンプメタライゼーション(UBM)
14.6.5. バンプ形成
14.6.6. その他
    14.7. 半導体めっきシステム市場規模(10億米ドル)および数量(10億ユニット)分析と予測、国およびサブ地域別、2017-2031年
14.7.1. ブラジル
14.7.2. 南米その他
    14.8. 市場魅力度分析
14.8.1. タイプ別
14.8.2. 技術別
14.8.3. ウェーハサイズ別
14.8.4. 用途別
14.8.5. 国・サブ地域別
15. 競争評価
15.1. グローバル半導体めっき装置市場競争マトリクス – ダッシュボードビュー
15.1.1. グローバル半導体めっき装置市場企業シェア分析(金額ベース、2022年)
15.1.2. 技術的差別化要因
16. 企業プロファイル(グローバルメーカー/サプライヤー)
    16.1. ACMリサーチ社
16.1.1. 概要
16.1.2. 製品ポートフォリオ
16.1.3. 販売拠点
16.1.4. 主要子会社または販売代理店
16.1.5. 戦略と最近の動向
16.1.6. 主要財務指標
16.2. アプライド マテリアルズ社
16.2.1. 概要
16.2.2. 製品ポートフォリオ
16.2.3. 販売拠点
16.2.4. 主要子会社または販売代理店
16.2.5. 戦略と最近の動向
16.2.6. 主要財務指標
16.3. ASMPT
16.3.1. 概要
16.3.2. 製品ポートフォリオ
16.3.3. 販売網
16.3.4. 主要子会社または販売代理店
16.3.5. 戦略と最近の動向
16.3.6. 主要財務指標
16.4. ClassOne Technology, Inc.
16.4.1. 概要
16.4.2. 製品ポートフォリオ
16.4.3. 販売網
16.4.4. 主要子会社または販売代理店
16.4.5. 戦略と最近の動向
16.4.6. 主要財務指標
16.5. EBARA Technologies, Inc.
        16.5.1. 概要
16.5.2. 製品ポートフォリオ
16.5.3. 販売網
16.5.4. 主要子会社または販売代理店
16.5.5. 戦略と最近の動向
16.5.6. 主要財務指標
    16.6. 日立パワーソリューションズ株式会社
16.6.1. 概要
16.6.2. 製品ポートフォリオ
16.6.3. 販売拠点
16.6.4. 主要子会社または販売代理店
        16.6.5. 戦略と最近の動向
16.6.6. 主要財務指標
16.7. LAM RESEARCH CORPORATION
16.7.1. 概要
16.7.2. 製品ポートフォリオ
16.7.3. 販売網
16.7.4. 主要子会社または販売代理店
16.7.5. 戦略と最近の動向
16.7.6. 主要財務指標
16.8. 三友セミコンエンジニアリング株式会社
16.8.1. 概要
16.8.2. 製品ポートフォリオ
16.8.3. 販売拠点
16.8.4. 主要子会社または販売代理店
16.8.5. 戦略と最近の動向
16.8.6. 主要財務指標
16.9. RENAテクノロジーズ
        16.9.1. 概要
16.9.2. 製品ポートフォリオ
16.9.3. 販売網
16.9.4. 主要子会社または販売代理店
16.9.5. 戦略と最近の動向
16.9.6. 主要財務指標
    16.10. 株式会社タナカホールディングス
16.10.1. 概要
16.10.2. 製品ポートフォリオ
16.10.3. 販売網
16.10.4. 主要子会社または販売代理店
        16.10.5. 戦略と最近の動向
16.10.6. 主要財務指標
16.11. その他の主要企業
16.11.1. 概要
16.11.2. 製品ポートフォリオ
16.11.3. 販売拠点
        16.11.4. 主要子会社または販売代理店
16.11.5. 戦略と最近の動向
16.11.6. 主要財務指標
17. 市場参入戦略
17.1. 潜在的な市場領域の特定
17.2. 優先販売・マーケティング戦略

1. Preface
    1.1. Market and Segments Definition
    1.2. Market Taxonomy
    1.3. Research Methodology
    1.4. Assumption and Acronyms
2. Executive Summary
    2.1. Global Semiconductor Plating System Market Overview
    2.2. Regional Outline
    2.3. Industry Outline
    2.4. Market Dynamics Snapshot
    2.5. Competition Blueprint
3. Market Dynamics
    3.1. Macro-economic Factors
    3.2. Drivers
    3.3. Restraints
    3.4. Opportunities
    3.5. Key Trends
    3.6. Regulatory Framework
4. Associated Industry and Key Indicator Assessment
    4.1. Parent Industry Overview - Global Semiconductor Industry Overview
    4.2. Supply Chain Analysis
    4.3. Pricing Analysis
    4.4. Technology Roadmap
    4.5. Industry SWOT Analysis
    4.6. Porter’s Five Forces Analysis
5. Global Semiconductor Plating System Market Analysis, By Type
    5.1. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Type, 2017-2031
        5.1.1. Fully Automatic
        5.1.2. Semi-automatic
        5.1.3. Manual
    5.2. Market Attractiveness Analysis, By Type
6. Global Semiconductor Plating System Market Analysis, By Technology
    6.1. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Technology, 2017-2031
        6.1.1. Electroplating
        6.1.2. Electroless
    6.2. Market Attractiveness Analysis, By Technology
7. Global Semiconductor Plating System Market Analysis, By Wafer Size
    7.1. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Wafer Size, 2017-2031
        7.1.1. Up to 100 mm
        7.1.2. 100 mm - 200 mm
        7.1.3. Above 200 mm
    7.2. Market Attractiveness Analysis, By Wafer Size
8. Global Semiconductor Plating System Market Analysis, By Application
    8.1. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Application, 2017-2031
        8.1.1. TSV
        8.1.2. Copper Pillar
        8.1.3. Redistribution Layer (RDL)
        8.1.4. Under Bump Metallization (UBM)
        8.1.5. Bumping
        8.1.6. Others
    8.2. Market Attractiveness Analysis, By Application
9. Global Semiconductor Plating System Market Analysis and Forecast, By Region
    9.1. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Region, 2017-2031
        9.1.1. North America
        9.1.2. Europe
        9.1.3. Asia Pacific
        9.1.4. Middle East & Africa
        9.1.5. South America
    9.2. Market Attractiveness Analysis, By Region
10. North America Semiconductor Plating System Market Analysis and Forecast
    10.1. Market Snapshot
    10.2. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Type, 2017-2031
        10.2.1. Fully Automatic
        10.2.2. Semi-automatic
        10.2.3. Manual
    10.3. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Technology, 2017-2031
        10.3.1. Electroplating
        10.3.2. Electroless
    10.4. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Wafer Size, 2017-2031
        10.4.1. Up to 100 mm
        10.4.2. 100 mm - 200 mm
        10.4.3. Above 200 mm
    10.5. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Application, 2017-2031
        10.5.1. TSV
        10.5.2. Copper Pillar
        10.5.3. Redistribution Layer (RDL)
        10.5.4. Under Bump Metallization (UBM)
        10.5.5. Bumping
        10.5.6. Others
    10.6. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Country and Sub-region, 2017-2031
        10.6.1. The U.S.
        10.6.2. Canada
        10.6.3. Rest of North America
    10.7. Market Attractiveness Analysis
        10.7.1. By Type
        10.7.2. By Technology
        10.7.3. By Wafer Size
        10.7.4. By Application
        10.7.5. By Country/Sub-region
11. Europe Semiconductor Plating System Market Analysis and Forecast
    11.1. Market Snapshot
    11.2. Drivers and Restraints: Impact Analysis
    11.3. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Type, 2017-2031
        11.3.1. Fully Automatic
        11.3.2. Semi-automatic
        11.3.3. Manual
    11.4. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Technology, 2017-2031
        11.4.1. Electroplating
        11.4.2. Electroless
    11.5. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Wafer Size, 2017-2031
        11.5.1. Up to 100 mm
        11.5.2. 100 mm - 200 mm
        11.5.3. Above 200 mm
    11.6. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Application, 2017-2031
        11.6.1. TSV
        11.6.2. Copper Pillar
        11.6.3. Redistribution Layer (RDL)
        11.6.4. Under Bump Metallization (UBM)
        11.6.5. Bumping
        11.6.6. Others
    11.7. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Country and Sub-region, 2017-2031
        11.7.1. The U.K.
        11.7.2. Germany
        11.7.3. France
        11.7.4. Rest of Europe
    11.8. Market Attractiveness Analysis
        11.8.1. By Type
        11.8.2. By Technology
        11.8.3. By Wafer Size
        11.8.4. By Application
        11.8.5. By Country/Sub-region
12. Asia Pacific Semiconductor Plating System Market Analysis and Forecast
    12.1. Market Snapshot
    12.2. Drivers and Restraints: Impact Analysis
    12.3. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Type, 2017-2031
        12.3.1. Fully Automatic
        12.3.2. Semi-automatic
        12.3.3. Manual
    12.4. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Technology, 2017-2031
        12.4.1. Electroplating
        12.4.2. Electroless
    12.5. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Wafer Size, 2017-2031
        12.5.1. Up to 100 mm
        12.5.2. 100 mm - 200 mm
        12.5.3. Above 200 mm
    12.6. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Application, 2017-2031
        12.6.1. TSV
        12.6.2. Copper Pillar
        12.6.3. Redistribution Layer (RDL)
        12.6.4. Under Bump Metallization (UBM)
        12.6.5. Bumping
        12.6.6. Others
    12.7. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Country and Sub-region, 2017-2031
        12.7.1. China
        12.7.2. Japan
        12.7.3. India
        12.7.4. South Korea
        12.7.5. ASEAN
        12.7.6. Rest of Asia Pacific
    12.8. Market Attractiveness Analysis
        12.8.1. By Type
        12.8.2. By Technology
        12.8.3. By Wafer Size
        12.8.4. By Application
        12.8.5. By Country/Sub-region
13. Middle East and Africa Semiconductor Plating System Market Analysis and Forecast
    13.1. Market Snapshot
    13.2. Drivers and Restraints: Impact Analysis
    13.3. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Type, 2017-2031
        13.3.1. Fully Automatic
        13.3.2. Semi-automatic
        13.3.3. Manual
    13.4. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Technology, 2017-2031
        13.4.1. Electroplating
        13.4.2. Electroless
    13.5. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Wafer Size, 2017-2031
        13.5.1. Up to 100 mm
        13.5.2. 100 mm - 200 mm
        13.5.3. Above 200 mm
    13.6. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Application, 2017-2031
        13.6.1. TSV
        13.6.2. Copper Pillar
        13.6.3. Redistribution Layer (RDL)
        13.6.4. Under Bump Metallization (UBM)
        13.6.5. Bumping
        13.6.6. Others
    13.7. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Country and Sub-region, 2017-2031
        13.7.1. GCC
        13.7.2. South Africa
        13.7.3. Rest of Middle East and Africa
    13.8. Market Attractiveness Analysis
        13.8.1. By Type
        13.8.2. By Technology
        13.8.3. By Wafer Size
        13.8.4. By Application
        13.8.5. By Country/Sub-region
14. South America Semiconductor Plating System Market Analysis and Forecast
    14.1. Market Snapshot
    14.2. Drivers and Restraints: Impact Analysis
    14.3. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Type, 2017-2031
        14.3.1. Fully Automatic
        14.3.2. Semi-automatic
        14.3.3. Manual
    14.4. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Technology, 2017-2031
        14.4.1. Electroplating
        14.4.2. Electroless
    14.5. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Wafer Size, 2017-2031
        14.5.1. Up to 100 mm
        14.5.2. 100 mm - 200 mm
        14.5.3. Above 200 mm
    14.6. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) Analysis & Forecast, By Application, 2017-2031
        14.6.1. TSV
        14.6.2. Copper Pillar
        14.6.3. Redistribution Layer (RDL)
        14.6.4. Under Bump Metallization (UBM)
        14.6.5. Bumping
        14.6.6. Others
    14.7. Semiconductor Plating System Market Size (US$ Bn) and Volume (Billion Units) Analysis & Forecast, By Country and Sub-region, 2017-2031
        14.7.1. Brazil
        14.7.2. Rest of South America
    14.8. Market Attractiveness Analysis
        14.8.1. By Type
        14.8.2. By Technology
        14.8.3. By Wafer Size
        14.8.4. By Application
        14.8.5. By Country/Sub-region
15. Competition Assessment
    15.1. Global Semiconductor Plating System Market Competition Matrix - a Dashboard View
        15.1.1. Global Semiconductor Plating System Market Company Share Analysis, by Value (2022)
        15.1.2. Technological Differentiator
16. Company Profiles (Global Manufacturers/Suppliers)
    16.1. ACM Research, Inc.
        16.1.1. Overview
        16.1.2. Product Portfolio
        16.1.3. Sales Footprint
        16.1.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.1.5. Strategy and Recent Developments
        16.1.6. Key Financials
    16.2. Applied Materials, Inc.
        16.2.1. Overview
        16.2.2. Product Portfolio
        16.2.3. Sales Footprint
        16.2.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.2.5. Strategy and Recent Developments
        16.2.6. Key Financials
    16.3. ASMPT
        16.3.1. Overview
        16.3.2. Product Portfolio
        16.3.3. Sales Footprint
        16.3.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.3.5. Strategy and Recent Developments
        16.3.6. Key Financials
    16.4. ClassOne Technology, Inc.
        16.4.1. Overview
        16.4.2. Product Portfolio
        16.4.3. Sales Footprint
        16.4.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.4.5. Strategy and Recent Developments
        16.4.6. Key Financials
    16.5. EBARA Technologies, Inc.
        16.5.1. Overview
        16.5.2. Product Portfolio
        16.5.3. Sales Footprint
        16.5.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.5.5. Strategy and Recent Developments
        16.5.6. Key Financials
    16.6. Hitachi Power Solutions Co., Ltd.
        16.6.1. Overview
        16.6.2. Product Portfolio
        16.6.3. Sales Footprint
        16.6.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.6.5. Strategy and Recent Developments
        16.6.6. Key Financials
    16.7. LAM RESEARCH CORPORATION
        16.7.1. Overview
        16.7.2. Product Portfolio
        16.7.3. Sales Footprint
        16.7.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.7.5. Strategy and Recent Developments
        16.7.6. Key Financials
    16.8. MITOMO SEMICON ENGINEERING CO., LTD.
        16.8.1. Overview
        16.8.2. Product Portfolio
        16.8.3. Sales Footprint
        16.8.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.8.5. Strategy and Recent Developments
        16.8.6. Key Financials
    16.9. RENA Technologies
        16.9.1. Overview
        16.9.2. Product Portfolio
        16.9.3. Sales Footprint
        16.9.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.9.5. Strategy and Recent Developments
        16.9.6. Key Financials
    16.10. TANAKA HOLDINGS Co., Ltd.
        16.10.1. Overview
        16.10.2. Product Portfolio
        16.10.3. Sales Footprint
        16.10.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.10.5. Strategy and Recent Developments
        16.10.6. Key Financials
    16.11. Others Key players
        16.11.1. Overview
        16.11.2. Product Portfolio
        16.11.3. Sales Footprint
        16.11.4. Key Subsidiaries or Distributors
        16.11.5. Strategy and Recent Developments
        16.11.6. Key Financials
17. Go to Market Strategy
    17.1. Identification of Potential Market Spaces
    17.2. Preferred Sales & Marketing Strategy
※半導体めっき装置は、半導体デバイスの製造過程において、金属やその他の材料を基板表面に均一に薄く堆積させるための装置です。この装置は、主に電気化学的な手法を用いて金属を基板に付着させるため、電解メッキまたは化学メッキと呼ばれる技術が使用されます。半導体製造においては、特に集積回路(IC)やメモリデバイスの製造が重要な役割を果たしています。
半導体めっき装置は、さまざまな種類に分かれますが、一般的に分類すると、電解メッキ装置、化学メッキ装置、アナログメッキ装置などがあります。電解メッキ装置は、電流を流すことで化学反応を促進させ、金属イオンを還元して基板上に金属を付着させる装置です。化学メッキ装置は、化学反応を利用して金属を付着させますが、電流は必要としません。アナログメッキ装置は、従来の技術を踏襲しつつ、改良を加えた装置です。

これらの装置は、特定の用途に応じて設計されています。例えば、電解メッキは高い均一性と制御精度を持つため、微細なパターンを持つ半導体デバイスや多層構造のデバイスに適しています。一方、化学メッキは、導電性が低い基板でも使用できるため、より広範な材料選択が可能であり、多様なアプリケーションで利用されています。

半導体めっき装置は、電子機器や通信機器、自動車、家電製品など、さまざまな製品に応用されます。これらの産業では、より小型で高性能な半導体デバイスが求められており、そのためには高精度な薄膜形成が不可欠です。また、5G通信やAI、IoTなど、新たなテクノロジーの進展に伴い、半導体需要はますます拡大しています。そのため、半導体めっき装置の技術革新も進んでおり、特に生産性やコスト効率を向上させるための取り組みが行われています。

関連技術としては、基板前処理、フォトリソグラフィ、エッチング、現象観測技術などが挙げられます。基板前処理は、メッキを行う前に基板の表面を整える工程で、表面の清浄度や粗さがメッキ品質に大きな影響を与えます。フォトリソグラフィは、メッキを行う領域を選定するためのパターンを形成する技術であり、エッチングは、不要な部分を削除するために用いられます。現象観測技術は、メッキプロセス中のリアルタイムでの評価や制御を可能にし、品質管理において重要な役割を担っています。

今後、半導体めっき装置に関する技術はより高度化していくことが予想されます。新材料の開発やナノ技術の進展により、さらなる微細化や多層化が求められるため、高い精度と高いスループットを持つ装置が必要とされます。また、環境への配慮から、より持続可能な製造プロセスの開発も期待されています。半導体業界は常に進化しており、それに伴いめっき装置が果たす役割も重要性を増しているのです。
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