 | • レポートコード：MRC24BR-AG09314 • 出版社/出版日：Market Monitor Global / 2024年9月 • レポート形態：英語、PDF、約80ページ • 納品方法：Eメール（納期：3日） • 産業分類：機械&装置 |
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レポート概要
本調査レポートは、EUVフォトリソグラフィー装置市場の包括的な分析を提供し、現在の動向、市場力学、将来の見通しに焦点を当てています。北米、欧州、アジア太平洋、新興市場などの主要地域を含む世界のEUVフォトリソグラフィー装置市場を調査しています。また、EUVフォトリソグラフィー装置の成長を促進する主な要因、業界が直面する課題、市場プレイヤーの潜在的な機会についても考察しています。
世界のEUVフォトリソグラフィー装置市場は、2023年にxxxx米ドルと評価され、予測期間中に年平均成長率xxxx%で、2030年までにxxxx米ドルに達すると予測されています。
*** 主な特徴 ***
EUVフォトリソグラフィー装置市場に関する本調査レポートには、包括的なインサイトを提供し、関係者の意思決定を支援するためのいくつかの主要な特徴が含まれています。
[エグゼクティブサマリー]
EUVフォトリソグラフィー装置市場の主要な調査結果、市場動向、主要なインサイトの概要を提供しています。
[市場概要]
当レポートでは、EUVフォトリソグラフィー装置市場の定義、過去の推移、現在の市場規模など、包括的な概観を提供しています。また、タイプ別（370nm～270nm、270nm～170nm、70nm～1nm）、地域別、用途別（IDM、ファウンドリ）の市場セグメントを網羅し、各セグメントにおける主要促進要因、課題、機会を明らかにしています。
[市場ダイナミクス]
当レポートでは、EUVフォトリソグラフィー装置市場の成長と発展を促進する市場ダイナミクスを分析しています。政府政策や規制、技術進歩、消費者動向や嗜好、インフラ整備、業界連携などの分析データを掲載しています。この分析により、関係者はEUVフォトリソグラフィー装置市場の軌道に影響を与える要因を理解することができます。
[競合情勢]
当レポートでは、EUVフォトリソグラフィー装置市場における競合情勢を詳細に分析しています。主要市場プレイヤーのプロフィール、市場シェア、戦略、製品ポートフォリオ、最新動向などを掲載しています。
[市場細分化と予測]
当レポートでは、EUVフォトリソグラフィー装置市場をタイプ別、地域別、用途別など様々なパラメータに基づいて細分化しています。定量的データと分析に裏付けされた各セグメントごとの市場規模と成長予測を提供しています。これにより、関係者は成長機会を特定し、情報に基づいた投資決定を行うことができます。
[技術動向]
本レポートでは、EUVフォトリソグラフィー装置市場を形成する主要な技術動向（タイプ1技術の進歩や新たな代替品など）に焦点を当てます。これらのトレンドが市場成長、普及率、消費者の嗜好に与える影響を分析します。
[市場の課題と機会]
技術的ボトルネック、コスト制限、高い参入障壁など、EUVフォトリソグラフィー装置市場が直面する主な課題を特定し分析しています。また、政府のインセンティブ、新興市場、利害関係者間の協力など、市場成長の機会も取り上げています。
[規制・政策分析]
本レポートは、政府のインセンティブ、排出基準、インフラ整備計画など、EUVフォトリソグラフィー装置市場に関する規制・政策状況を分析しました。これらの政策が市場成長に与える影響を分析し、今後の規制動向に関する洞察を提供しています。
[提言と結論]
このレポートは、消費者、政策立案者、投資家、インフラストラクチャプロバイダーなどの利害関係者に対する実用的な推奨事項で締めくくられています。これらの推奨事項はリサーチ結果に基づいており、EUVフォトリソグラフィー装置市場内の主要な課題と機会に対処する必要があります。
[補足データと付録]
本レポートには、分析と調査結果を実証するためのデータ、図表、グラフが含まれています。また、データソース、調査アンケート、詳細な市場予測などの詳細情報を追加した付録も含まれています。
*** 市場区分 ****
EUVフォトリソグラフィー装置市場はタイプ別と用途別に分類されます。2019年から2030年までの期間において、セグメント間の成長により、タイプ別、用途別の市場規模の正確な計算と予測を提供します。
■タイプ別市場セグメント
370nm～270nm、270nm～170nm、70nm～1nm
■用途別市場セグメント
IDM、ファウンドリ
■地域別・国別セグメント
北米
米国
カナダ
メキシコ
欧州
ドイツ
フランス
英国
イタリア
ロシア
アジア
中国
日本
韓国
東南アジア
インド
南米
ブラジル
アルゼンチン
中東・アフリカ
トルコ
イスラエル
サウジアラビア
アラブ首長国連邦
*** 主要メーカー ***
ASML、Canon、Nikon、NuFlare、SUSS、EV Group
*** 主要章の概要 ***
第1章：EUVフォトリソグラフィー装置の定義、市場概要を紹介
第2章：世界のEUVフォトリソグラフィー装置市場規模
第3章：EUVフォトリソグラフィー装置メーカーの競争環境、価格、売上高、市場シェア、最新の開発計画、M&A情報などを詳しく分析
第4章：EUVフォトリソグラフィー装置市場をタイプ別に分析し、各セグメントの市場規模と発展可能性を掲載
第5章：EUVフォトリソグラフィー装置市場を用途別に分析し、各セグメントの市場規模と発展可能性を掲載
第6章：各地域とその主要国の市場規模と発展可能性を定量的に分析
第7章：主要企業のプロフィールを含め、企業の販売量、売上、価格、粗利益率、製品紹介、最近の開発など、市場における主要企業の基本的な状況を詳しく紹介
第8章 世界のEUVフォトリソグラフィー装置の地域別生産能力
第9章：市場力学、市場の最新動向、推進要因と制限要因、業界のメーカーが直面する課題とリスク、業界の関連政策を分析
第10章：産業の上流と下流を含む産業チェーンの分析
第11章：レポートの要点と結論
レポート目次1 当調査分析レポートの紹介
・EUVフォトリソグラフィー装置市場の定義
・市場セグメント
タイプ別：370nm～270nm、270nm～170nm、70nm～1nm
用途別：IDM、ファウンドリ
・世界のEUVフォトリソグラフィー装置市場概観
・本レポートの特徴とメリット
・調査方法と情報源
調査方法
調査プロセス
基準年
レポートの前提条件と注意点
2 EUVフォトリソグラフィー装置の世界市場規模
・EUVフォトリソグラフィー装置の世界市場規模：2023年VS2030年
・EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高、展望、予測：2019年～2030年
・EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高：2019年～2030年
3 企業の概況
・グローバル市場におけるEUVフォトリソグラフィー装置上位企業
・グローバル市場におけるEUVフォトリソグラフィー装置の売上高上位企業ランキング
・グローバル市場におけるEUVフォトリソグラフィー装置の企業別売上高ランキング
・世界の企業別EUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・世界のEUVフォトリソグラフィー装置のメーカー別価格（2019年～2024年）
・グローバル市場におけるEUVフォトリソグラフィー装置の売上高上位3社および上位5社、2023年
・グローバル主要メーカーのEUVフォトリソグラフィー装置の製品タイプ
・グローバル市場におけるEUVフォトリソグラフィー装置のティア1、ティア2、ティア3メーカー
グローバルEUVフォトリソグラフィー装置のティア1企業リスト
グローバルEUVフォトリソグラフィー装置のティア2、ティア3企業リスト
4 製品タイプ別分析
・概要
タイプ別 – EUVフォトリソグラフィー装置の世界市場規模、2023年・2030年
370nm～270nm、270nm～170nm、70nm～1nm
・タイプ別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高と予測
タイプ別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高、2019年～2024年
タイプ別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高、2025年～2030年
タイプ別-EUVフォトリソグラフィー装置の売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別 – EUVフォトリソグラフィー装置の価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
5 用途別分析
・概要
用途別 – EUVフォトリソグラフィー装置の世界市場規模、2023年・2030年
IDM、ファウンドリ
・用途別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高と予測
用途別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高、2019年～2024年
用途別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高、2025年～2030年
用途別 – EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別 – EUVフォトリソグラフィー装置の価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
6 地域別分析
・地域別 – EUVフォトリソグラフィー装置の市場規模、2023年・2030年
・地域別 – EUVフォトリソグラフィー装置の売上高と予測
地域別 – EUVフォトリソグラフィー装置の売上高、2019年～2024年
地域別 – EUVフォトリソグラフィー装置の売上高、2025年～2030年
地域別 – EUVフォトリソグラフィー装置の売上高シェア、2019年～2030年
・北米
北米のEUVフォトリソグラフィー装置売上高・販売量、2019年～2030年
米国のEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
カナダのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
メキシコのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
・ヨーロッパ
ヨーロッパのEUVフォトリソグラフィー装置売上高・販売量、2019年〜2030年
ドイツのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
フランスのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
イギリスのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
イタリアのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
ロシアのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
・アジア
アジアのEUVフォトリソグラフィー装置売上高・販売量、2019年～2030年
中国のEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
日本のEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
韓国のEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
東南アジアのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
インドのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
・南米
南米のEUVフォトリソグラフィー装置売上高・販売量、2019年～2030年
ブラジルのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
アルゼンチンのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
・中東・アフリカ
中東・アフリカのEUVフォトリソグラフィー装置売上高・販売量、2019年～2030年
トルコのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
イスラエルのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
サウジアラビアのEUVフォトリソグラフィー装置市場規模、2019年～2030年
UAEEUVフォトリソグラフィー装置の市場規模、2019年～2030年
7 主要メーカーのプロフィール
※掲載企業：ASML、Canon、Nikon、NuFlare、SUSS、EV Group
・Company A
Company Aの会社概要
Company Aの事業概要
Company AのEUVフォトリソグラフィー装置の主要製品
Company AのEUVフォトリソグラフィー装置のグローバル販売量・売上
Company Aの主要ニュース＆最新動向
・Company B
Company Bの会社概要
Company Bの事業概要
Company BのEUVフォトリソグラフィー装置の主要製品
Company BのEUVフォトリソグラフィー装置のグローバル販売量・売上
Company Bの主要ニュース＆最新動向
…
…
8 世界のEUVフォトリソグラフィー装置生産能力分析
・世界のEUVフォトリソグラフィー装置生産能力
・グローバルにおける主要メーカーのEUVフォトリソグラフィー装置生産能力
・グローバルにおけるEUVフォトリソグラフィー装置の地域別生産量
9 主な市場動向、機会、促進要因、抑制要因
・市場の機会と動向
・市場の促進要因
・市場の抑制要因
10 EUVフォトリソグラフィー装置のサプライチェーン分析
・EUVフォトリソグラフィー装置産業のバリューチェーン
・EUVフォトリソグラフィー装置の上流市場
・EUVフォトリソグラフィー装置の下流市場と顧客リスト
・マーケティングチャネル分析
マーケティングチャネル
世界のEUVフォトリソグラフィー装置の販売業者と販売代理店
11 まとめ
12 付録
・注記
・クライアントの例
・免責事項
・EUVフォトリソグラフィー装置のタイプ別セグメント
・EUVフォトリソグラフィー装置の用途別セグメント
・EUVフォトリソグラフィー装置の世界市場概要、2023年
・主な注意点
・EUVフォトリソグラフィー装置の世界市場規模：2023年VS2030年
・EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高：2019年～2030年
・EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル販売量：2019年～2030年
・EUVフォトリソグラフィー装置の売上高上位3社および5社の市場シェア、2023年
・タイプ別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高
・タイプ別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル価格
・用途別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高
・用途別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル価格
・地域別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高、2023年・2030年
・地域別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年 VS 2023年 VS 2030年
・地域別-EUVフォトリソグラフィー装置のグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・国別-北米のEUVフォトリソグラフィー装置市場シェア、2019年～2030年
・米国のEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・カナダのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・メキシコのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・国別-ヨーロッパのEUVフォトリソグラフィー装置市場シェア、2019年～2030年
・ドイツのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・フランスのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・英国のEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・イタリアのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・ロシアのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・地域別-アジアのEUVフォトリソグラフィー装置市場シェア、2019年～2030年
・中国のEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・日本のEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・韓国のEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・東南アジアのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・インドのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・国別-南米のEUVフォトリソグラフィー装置市場シェア、2019年～2030年
・ブラジルのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・アルゼンチンのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・国別-中東・アフリカEUVフォトリソグラフィー装置市場シェア、2019年～2030年
・トルコのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・イスラエルのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・サウジアラビアのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・UAEのEUVフォトリソグラフィー装置の売上高
・世界のEUVフォトリソグラフィー装置の生産能力
・地域別EUVフォトリソグラフィー装置の生産割合（2023年対2030年）
・EUVフォトリソグラフィー装置産業のバリューチェーン
・マーケティングチャネル
| 【EUVフォトリソグラフィー装置について】 EUVフォトリソグラフィー装置は、極端紫外線（Extreme Ultraviolet）の光を利用して半導体のマスクや基板にパターンを転写するための高度な技術です。この技術は、特に次世代の半導体製造プロセスにおいて不可欠な要素として位置付けられています。EUVフォトリソグラフィーは、微細なパターンを効率的に形成する能力を持ち、これによりトランジスタのサイズを縮小し、集積度を高めることが可能となります。 EUVの波長は約13.5nmであり、これは従来の深紫外線（DUV）で使用される波長よりもはるかに短いため、より細かいパターンを形成することができます。これにより、5nmプロセス技術やそれ以降の技術で必要とされる微細化が実現可能になります。微細化は、半導体チップの性能向上、消費電力の低減、回路面積の縮小など、多くのメリットを提供します。 EUVフォトリソグラフィー装置の特徴としては、まずその光源技術が挙げられます。EUV光源は、非常に高温のプラズマを利用して生成され、特に高エネルギーのレーザーを使用したリチウムガスの入射が一般的な方法です。このため、EUV光源の開発と安定性確保は、EUVリソグラフィーの実用化において大きな課題となっています。さらには、EUVは大気中ではすぐに吸収されてしまうため、真空環境下での操作が必須です。これにより、装置全体の設計に工夫が求められています。 また、EUVフォトリソグラフィー装置は、非常に高い解像度と精度を誇ります。この装置は、マスクと基板の間に高度な光学系を備えており、数百万画素の高解像度でパターンを転写することができます。これにより、従来のリソグラフィー方式では困難な細かな構造を形成することができます。その結果、集積回路にはより多くのトランジスタを搭載でき、性能を大幅に向上させることができます。 EUVフォトリソグラフィーは、主にいくつかの種類に分類されることがあります。一つは、単一EUV露光方式であり、これは一度の露光でパターンを形成する方法です。この方式は、比較的シンプルで高い解像度を持ちますが、製造コストが高く、特に多層構造を持つデバイスには限界があります。 もう一つは、複数のEUV露光方式です。これは、同じパターンを複数回露光することで形成する方法であり、複雑な構造を持つチップに対して効果的です。この方法では、工程管理やマスクのデザインに工夫が必要となりますが、柔軟性が高く、多様なデバイスに対応できます。 EUVフォトリソグラフィーの用途は主に半導体製造の分野に集中しています。特に、最先端のプロセス技術、例えば5nmや3nmのプロセスノードにおいては、EUV装置が不可欠であり、これにより高性能なマイクロプロセッサやメモリチップが製造されています。さらに、EUV技術は、今後の量子コンピュータやAIチップの製造にも重要な役割を果たすと考えられています。 関連技術としては、光学設計技術やマスク技術が挙げられます。EUVフォトリソグラフィーでは、光の扱いが非常に重要であるため、最適化された光学系の設計が欠かせません。また、EUV用のマスクは、反射型マスクと呼ばれるもので、伝送型マスクとは異なる設計がされています。このマスクの製造には精密な技術が求められるため、専用のプロセスが開発されています。 さらに、EUVリソグラフィーにおける課題の一つは、マスク欠陥や露光プロセス中のエラーに対する耐性です。半導体製造において、微細な欠陥はチップ全体の性能に影響を及ぼすため、これを避けるための技術開発が進められています。また、EUV光源の出力の安定性や長寿命も重要な研究課題です。 全体として、EUVフォトリソグラフィー装置は、次世代半導体製造の基盤技術として急速に進展を遂げています。デジタル社会におけるデバイスの高性能化、多機能化にともない、その需要が増大しています。 EUV技術の進展により、これからもより高度な計算処理が可能なデバイスが次々と登場することが期待されています。これは、AI、IoT、5Gなどの技術と組み合わせた新しい製品やサービスの創出につながり、未来のテクノロジー社会を支える重要な要素となるでしょう。 |
