ワイドバンドギャップ半導体市場:規模・シェア分析 – 成長トレンドと予測 (2025-2030年)
ワイドバンドギャップ半導体レポートは、材料(炭化ケイ素、窒化ガリウム、ダイヤモンド、窒化アルミニウム、その他材料)、デバイスタイプ(パワーデバイス、RF・マイクロ波デバイスなど)、最終用途産業(自動車、家電、産業、通信、航空宇宙、エネルギー)、ウェーハサイズ(2インチ以下、4インチなど)、および地域別に分類されています。市場予測は、金額(米ドル)で提供されます。

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ワイドバンドギャップ(WBG)半導体市場は、2025年に22.7億米ドル、2030年には42.2億米ドルに達すると予測されており、2025年から2030年にかけて年平均成長率(CAGR)13.17%で成長する見込みです。この成長は、強力な電化義務、5G展開の需要、および効率規制によって推進されており、設計者はシリコンデバイスの電圧および熱限界を超えてWBG半導体へと移行しています。炭化ケイ素(SiC)はトラクションインバーターや産業用ドライブで主導的な地位を維持し、窒化ガリウム(GaN)は通信や急速充電における中電圧・高周波ニッチ市場を獲得しています。しかし、SiCブールやガリウム原料の供給不足が主要なボトルネックとなっています。一方で、8インチウェハーへの移行、垂直統合、地域政策によるインセンティブがコスト削減、供給多様化、競争激化を促しています。企業活動は活発で、既存企業は材料確保、専門企業の買収、車載グレード製品の量産化を急いでいます。
主要な市場動向と洞察
促進要因
* EV関連SiC需要の急増: 世界の電気自動車(EV)プログラムでは、航続距離を7%向上させ、800Vアーキテクチャによる20分未満の充電を可能にするSiCの能力が、EV市場におけるSiC需要を急増させています。
* データセンターと通信におけるGaNの成長: 5Gインフラストラクチャの拡大とデータセンターのエネルギー効率への要求が高まるにつれて、GaNデバイスは高周波性能と低損失により、電源、RFアンプ、およびその他の通信機器で採用が進んでいます。
* 再生可能エネルギーと産業用アプリケーション: 太陽光発電インバーター、風力タービン、および産業用モータードライブにおける高効率と小型化の必要性が、SiCおよびGaNデバイスの採用を促進しています。これらのアプリケーションでは、電力変換効率の向上とシステムコストの削減が重要な要素となります。
抑制要因
* 材料供給のボトルネック: SiCブールやガリウム原料の供給不足は、WBG半導体の生産能力を制限し、市場の成長を妨げる主要な要因となっています。特に、高品質なSiC基板の製造は技術的に複雑であり、生産に時間がかかります。
* 高コスト: WBG半導体デバイスは、従来のシリコンベースのデバイスと比較して製造コストが高く、特に初期導入段階での障壁となっています。しかし、生産量の増加と技術の成熟により、徐々にコストは低下すると予想されています。
* 設計の複雑さ: WBG半導体の特性を最大限に活用するためには、新しい設計手法と専門知識が必要となります。これは、特に中小企業にとって、WBG技術への移行を遅らせる要因となる可能性があります。
市場機会
* 8インチウェハーへの移行: 8インチSiCウェハーへの移行は、生産コストの削減と生産能力の向上をもたらし、WBG半導体の普及を加速させる大きな機会となります。これにより、規模の経済が働き、デバイスの価格競争力が高まります。
* 垂直統合と地域政策: 材料メーカーからデバイスメーカーまでの一貫した垂直統合は、サプライチェーンの安定化とコスト削減に貢献します。また、各国政府による地域政策やインセンティブは、国内でのWBG半導体産業の育成と投資を促進し、市場の多様化と競争激化を促します。
* 新興アプリケーション: EV充電インフラ、スマートグリッド、航空宇宙、防衛などの新興アプリケーションは、WBG半導体にとって新たな成長機会を提供します。これらの分野では、高電力密度、高効率、および過酷な環境下での信頼性が求められるため、WBG技術が理想的なソリューションとなります。
市場課題
* 標準化の欠如: WBG半導体デバイスの設計、製造、およびテストにおける標準化の欠如は、相互運用性の問題を引き起こし、市場の採用を遅らせる可能性があります。業界全体での協力と標準化の推進が求められます。
* 技術的な成熟度: 特にGaNデバイスは、SiCと比較してまだ技術的な成熟度が低い部分があり、長期的な信頼性や耐久性に関するデータが不足している場合があります。継続的な研究開発と実証が重要です。
* 人材不足: WBG半導体技術に精通したエンジニアや専門家の不足は、業界の成長を制限する可能性があります。教育機関や企業による人材育成プログラムの強化が必要です。
競争環境
WBG半導体市場は、主要な半導体メーカーと新興企業が激しい競争を繰り広げています。既存企業は、材料確保のための戦略的提携、専門企業の買収、および車載グレード製品の量産化を急いでいます。例えば、Infineon、STMicroelectronics、onsemi、Wolfspeed、Rohmなどの企業が市場をリードしており、それぞれがSiCおよびGaN技術への大規模な投資を行っています。新規参入企業も、特定のニッチ市場や革新的な技術で差別化を図ろうとしています。この競争は、技術革新とコスト削減を促進し、最終的にはWBG半導体の普及に貢献すると考えられます。
このレポートは、グローバルワイドバンドギャップ半導体市場に関する詳細な分析を提供しています。市場の定義、調査の範囲、および調査方法について概説し、市場の現状、成長予測、主要な推進要因と抑制要因、競争環境、そして将来の機会を包括的に評価しています。
エグゼクティブサマリーによると、市場規模は2025年に22.7億米ドルに達し、2030年まで堅調な成長が予測されています。特に、電気自動車(EV)関連のSiC(炭化ケイ素)需要の急増と、5G展開によるGaN(窒化ガリウム)RFデバイスの需要拡大が市場の主要な推進力となっています。その他、政府による脱炭素化義務、8インチSiCウェハーによるコスト削減、産業用モーターの効率規制、車載用急速充電アーキテクチャの進化も市場成長を後押ししています。
一方で、市場には課題も存在します。SiCにおける高いエピタキシー欠陥率、GaNデバイスの認定ギャップ、SiCブールサプライヤーへのサプライチェーン依存、ダイヤモンドデバイスのパッケージングに関するノウハウ不足などが挙げられます。特に、SiCブールサプライヤーへの依存とガリウムにおける中国の優位性は、今後2年間で重要な調達上の脆弱性をもたらす可能性があると指摘されています。
市場は、材料別(SiC、GaN、ダイヤモンド、窒化アルミニウム(AlN)など)、デバイスタイプ別(パワーデバイス、RFおよびマイクロ波デバイス、光電子デバイスなど)、最終用途産業別(自動車・輸送、家電、産業・製造、通信・データ通信、航空宇宙・防衛、エネルギー・電力など)、ウェハーサイズ別(2インチ以下、4インチ、6インチ、8インチ以上など)、および地域別(北米、欧州、アジア太平洋、中東・アフリカ、南米)に詳細に分析されています。
材料別では、SiCが2024年に68.36%の市場シェアを占め、自動車のトラクションインバーターや産業用ドライブにおける高電圧能力の需要に牽引されています。GaNは、5G基地局の展開や高速充電アダプターにおける高周波効率と小型化の優先順位付けにより、SiCよりも速い成長を見せています。ウェハーサイズ別では、8インチSiC基板が2024年から2027年にかけて新しい200mmファブの稼働により、14.36%の年平均成長率(CAGR)で拡大し、デバイスあたりのコスト削減に貢献すると予測されています。地域別では、南米が再生可能エネルギーグリッドの近代化とインフラ投資により、2030年まで14.13%のCAGRで最も急速に拡大すると見込まれています。
競争環境の分析では、市場集中度、戦略的動向、市場シェア分析が行われています。Wolfspeed, Inc.、STMicroelectronics N.V.、Infineon Technologies AG、Rohm Co., Ltd.、onsemi、Mitsubishi Electric Corporation、Fuji Electric Co., Ltd.など、主要な市場プレイヤーの企業プロファイルが提供されており、各社の概要、主要セグメント、財務情報、戦略、製品・サービス、最近の動向などが含まれています。
本レポートは、市場の機会と将来の展望についても触れており、未開拓の領域や満たされていないニーズの評価を通じて、今後の市場発展の方向性を示唆しています。
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1. はじめに
- 1.1 調査の前提と市場の定義
- 1.2 調査範囲
2. 調査方法
3. エグゼクティブサマリー
4. 市場概況
- 4.1 市場概要
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4.2 市場の推進要因
- 4.2.1 EV関連SiC需要の急増
- 4.2.2 5G展開によるGaN RFデバイスの需要増加
- 4.2.3 政府の脱炭素化義務
- 4.2.4 8インチSiCウェハーによるコストダウン曲線
- 4.2.5 産業用モーターの効率規制
- 4.2.6 車載急速充電アーキテクチャ
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4.3 市場の阻害要因
- 4.3.1 SiCにおける高いエピタキシー欠陥率
- 4.3.2 GaNデバイスの認定ギャップ
- 4.3.3 SiCブールサプライヤーへのサプライチェーン依存
- 4.3.4 ダイヤモンドデバイスのパッケージングに関するノウハウの限定性
- 4.4 業界の価値/サプライチェーン分析
- 4.5 規制環境
- 4.6 技術的展望
-
4.7 ポーターの5つの力分析
- 4.7.1 新規参入者の脅威
- 4.7.2 買い手の交渉力
- 4.7.3 供給者の交渉力
- 4.7.4 代替品の脅威
- 4.7.5 競争上の対抗関係
5. 市場規模と成長予測(金額)
-
5.1 材料別
- 5.1.1 炭化ケイ素 (SiC)
- 5.1.2 窒化ガリウム (GaN)
- 5.1.3 ダイヤモンド
- 5.1.4 窒化アルミニウム (AlN)
- 5.1.5 その他の材料
-
5.2 デバイスタイプ別
- 5.2.1 パワーデバイス
- 5.2.2 RFおよびマイクロ波デバイス
- 5.2.3 光電子デバイス
- 5.2.4 その他のデバイスタイプ
-
5.3 最終用途産業別
- 5.3.1 自動車および輸送
- 5.3.2 家庭用電化製品
- 5.3.3 産業および製造
- 5.3.4 テレコムおよびデータコム
- 5.3.5 航空宇宙および防衛
- 5.3.6 エネルギーおよび電力
-
5.4 ウェーハサイズ別
- 5.4.1 2インチ以下
- 5.4.2 4インチ
- 5.4.3 6インチ
- 5.4.4 8インチ以上
-
5.5 地域別
- 5.5.1 北米
- 5.5.1.1 米国
- 5.5.1.2 カナダ
- 5.5.1.3 メキシコ
- 5.5.2 ヨーロッパ
- 5.5.2.1 ドイツ
- 5.5.2.2 イギリス
- 5.5.2.3 フランス
- 5.5.2.4 ロシア
- 5.5.2.5 その他のヨーロッパ
- 5.5.3 アジア太平洋
- 5.5.3.1 中国
- 5.5.3.2 日本
- 5.5.3.3 インド
- 5.5.3.4 韓国
- 5.5.3.5 オーストラリア
- 5.5.3.6 その他のアジア太平洋
- 5.5.4 中東およびアフリカ
- 5.5.4.1 中東
- 5.5.4.1.1 サウジアラビア
- 5.5.4.1.2 アラブ首長国連邦
- 5.5.4.1.3 その他の中東
- 5.5.4.2 アフリカ
- 5.5.4.2.1 南アフリカ
- 5.5.4.2.2 エジプト
- 5.5.4.2.3 その他のアフリカ
- 5.5.5 南米
- 5.5.5.1 ブラジル
- 5.5.5.2 アルゼンチン
- 5.5.5.3 その他の南米
6. 競争環境
- 6.1 市場集中度
- 6.2 戦略的動向
- 6.3 市場シェア分析
-
6.4 企業プロファイル(グローバルレベルの概要、市場レベルの概要、主要セグメント、利用可能な財務情報、戦略情報、主要企業の市場ランク/シェア、製品とサービス、および最近の動向を含む)
- 6.4.1 Wolfspeed, Inc.
- 6.4.2 STMicroelectronics N.V.
- 6.4.3 Infineon Technologies AG
- 6.4.4 Rohm Co., Ltd.
- 6.4.5 onsemi (ON Semiconductor Corporation)
- 6.4.6 Mitsubishi Electric Corporation
- 6.4.7 Fuji Electric Co., Ltd.
- 6.4.8 Qorvo, Inc.
- 6.4.9 Transphorm, Inc.
- 6.4.10 Navitas Semiconductor Corporation
- 6.4.11 GaN Systems Inc.
- 6.4.12 Efficient Power Conversion Corporation
- 6.4.13 GeneSiC Semiconductor Inc.
- 6.4.14 Microchip Technology Inc.
- 6.4.15 Power Integrations, Inc.
- 6.4.16 Innoscience Technology Company Ltd.
- 6.4.17 Exagan SAS
- 6.4.18 Cambridge GaN Devices Ltd.
- 6.4.19 Hitachi Power Semiconductor Device, Ltd.
- 6.4.20 Littelfuse, Inc.
7. 市場機会と将来展望
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ワイドバンドギャップ半導体とは、従来のシリコン(Si)半導体と比較して、より広いバンドギャップを持つ半導体材料の総称でございます。バンドギャップとは、電子が価電子帯から伝導帯へ励起するために必要なエネルギーのことであり、この値が大きいほど、より高い電界強度に耐え、高温環境下でも安定して動作する特性を持ちます。具体的には、シリコンのバンドギャップが約1.12電子ボルト(eV)であるのに対し、ワイドバンドギャップ半導体である炭化ケイ素(SiC)は約3.2eV、窒化ガリウム(GaN)は約3.4eV、酸化ガリウム(Ga2O3)に至っては約4.9eVと、大幅に広いエネルギーギャップを有しております。この特性により、ワイドバンドギャップ半導体は、高耐圧、低損失、高速スイッチング、高温動作といった優れた性能を発揮し、従来のシリコンでは実現が困難であった領域での応用が期待されています。
主要なワイドバンドギャップ半導体の種類としては、まず炭化ケイ素(SiC)が挙げられます。SiCは、高い絶縁破壊電界強度、高い熱伝導率、比較的広いバンドギャップを持つことから、主に高耐圧・大電流を扱うパワーデバイスに利用されています。特に、電気自動車(EV)のインバーターや産業用電源、再生可能エネルギー関連機器などでその優位性を発揮し、既に実用化が進んでおります。次に、窒化ガリウム(GaN)は、高い電子移動度と広いバンドギャップを特徴とし、高周波・高出力用途や高速スイッチングが求められるパワーデバイスに適しています。5G通信基地局のパワーアンプや、スマートフォンなどの急速充電器、データセンターの電源など、幅広い分野での採用が拡大しております。さらに、酸化ガリウム(Ga2O3)は、SiCやGaNよりもさらに広いバンドギャップを持つウルトラワイドバンドギャップ半導体として注目されており、究極の低損失パワーデバイス材料として研究開発が進められています。その他、ダイヤモンドや窒化アルミニウム(AlN)なども、それぞれ極めて広いバンドギャップや高い熱伝導率、深紫外光発光特性などを持ち、将来的な応用が期待される材料でございます。
これらのワイドバンドギャップ半導体は、多岐にわたる分野でその優れた特性を活かした用途が広がっております。最も代表的なのはパワーエレクトロニクス分野で、電気自動車のモーターを駆動するインバーター、車載充電器、DC-DCコンバーターなどにSiCやGaNが採用され、システムの小型化、軽量化、高効率化に貢献しています。また、太陽光発電のパワーコンディショナーや風力発電の変換器、産業用モーター駆動装置、データセンターのサーバー電源、無停電電源装置(UPS)など、電力変換が必要なあらゆる場面で省エネルギー化と高性能化を実現しています。高周波分野では、GaNが高周波パワーアンプとして5G移動通信システムの基地局やレーダーシステムに不可欠な存在となっており、高速・大容量通信の実現を支えています。さらに、GaNはLEDの材料としても広く使われており、照明やディスプレイ、深紫外LEDによる殺菌・浄水など、その応用範囲は広範にわたります。
ワイドバンドギャップ半導体の実用化と普及には、材料開発からデバイス製造、システム統合に至るまで、様々な関連技術の進歩が不可欠でございます。まず、高品質な単結晶基板の製造技術が重要です。SiCでは大口径化と欠陥密度の低減が、GaNではサファイアやSiC、シリコン基板上への高品質なエピタキシャル成長技術が求められます。次に、デバイス製造プロセスにおいては、これらの材料特有の高温プロセスやイオン注入、エッチング技術の開発が進められています。また、デバイスの性能を最大限に引き出すためには、高熱伝導性、低寄生インダクタンス、高信頼性を実現するパッケージング技術が不可欠です。特に、高電力密度化が進む中で、効率的な放熱を可能にする熱マネジメント技術は、デバイスの安定動作と長寿命化に直結します。さらに、ワイドバンドギャップ半導体の高速スイッチング特性を活かすためには、それに適した回路設計や制御技術の開発も重要な要素となります。
市場背景としては、世界的なエネルギー効率向上への要求と、それに伴う環境規制の強化がワイドバンドギャップ半導体の普及を強く後押ししています。地球温暖化対策としてのCO2排出量削減目標達成には、電力損失の低減が不可欠であり、ワイドバンドギャップ半導体はその切り札として期待されています。また、電気自動車の普及加速、5G通信の本格展開、IoTデバイスの増加、データセンターの電力消費増大といったメガトレンドが、高効率・小型・軽量な電力変換器や高周波デバイスへの需要を飛躍的に高めています。従来のシリコン半導体は、その性能が物理的な限界に近づいており、これらの新たな要求に応えることが難しくなってきています。このような状況下で、ワイドバンドギャップ半導体は、シリコンの限界を超える次世代の半導体として、その存在感を増しているのです。製造コストの低減や信頼性の向上も進み、市場への浸透が加速しております。
将来展望としましては、ワイドバンドギャップ半導体は今後も技術革新と市場拡大を続けると予想されます。材料面では、酸化ガリウムやダイヤモンドといったウルトラワイドバンドギャップ半導体の研究開発がさらに進展し、より高耐圧、低損失、高温動作が可能なデバイスの実現が期待されます。これにより、現在のSiCやGaNでは対応が難しい極限環境下での応用や、さらなる省エネルギー化への貢献が見込まれます。デバイス製造技術においては、大口径基板の安定供給とコストダウン、欠陥密度のさらなる低減、そしてより複雑な集積回路の実現に向けたプロセス技術の確立が課題となります。また、パワーモジュールやシステムレベルでの最適化が進み、より使いやすく、高性能なソリューションが提供されるようになるでしょう。自動運転技術の進化や、スマートグリッド、宇宙・航空分野など、新たな応用領域の開拓も進むと予測されます。国際的な競争も激化する中で、各国・各企業が研究開発投資を加速させ、技術の優位性を確立しようと努めており、今後もワイドバンドギャップ半導体は、持続可能な社会の実現に不可欠な基盤技術として、その重要性を増していくことでしょう。