極紫外線リソグラフィ市場の規模、シェアおよびトレンド分析レポート:製品タイプ別(光源、ミラー、マスク)、タイプ別(ファウンドリ、集積デバイスメーカー(IDM))、地域別(北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中東およびアフリカ、ラテンアメリカ)予測、2026-2034年
極紫外線リソグラフィ市場の規模、シェア、成長予測(2034年まで)
概要
極紫外線リソグラフィ(EUVL)市場は、2025年に236.4億米ドルと評価され、2026年には259.5億米ドル、2034年には546.6億米ドルに成長すると予測されており、2026年から2034年の予測期間中に年平均成長率(CAGR)は9.76%となる見込みです。2025年には、台湾がEUVL市場で31.5%の市場シェアを占めており、主要な市場を形成しています。
EUVリソグラフィは、30nm以下の微細なラインを印刷し、マイクロプロセッサやマイクロチップを作成するために使用される次世代リソグラフィ技術の一つです。この技術は、現在マイクロ回路設計に使用されている光学リソグラフィに取って代わる可能性があります。EUVLシステムは、紫外線の固体光ビームをシリコンウエハーに反射させ、特定のパターンで焼き付けることによって機能します。
製品洞察
マスクセグメントは市場において最も高い貢献をしており、予測期間中にCAGRは16.56%で成長すると見込まれています。マスクは、特定のパターンで光を通す透明な領域を持つ不透明なプレートまたはフィルムであり、半導体チップの製造に用いられるフォトリソグラフィ技術で頻繁に使用されます。マスクは様々なサイズと種類があり、光学マスクやEUVマスクなどがあります。フラットパネルディスプレイ(FPD)の成長や自動化システムの普及が、フォトマスク開発の大きな機会を提供することが期待されています。
EUVL技術は、その誕生以来ほぼすべての分野で課題に直面していますが、次世代リソグラフィ技術として最も有望な方法の一つとして浮上しています。商業的なステップアンドスキャンの前処理ツールは、現在現場に設置され、完全に機能しています。EUVリソグラフィは、13.5ナノメートルの波長を使用し、DUV光よりも14倍以上短い波長を持つため、小さな数値開口を使用し、全反射光学系での自己ビネット効果の問題を回避することが可能です。ASMLは、レーザー生成プラズマ(LPP)技術を使用してEUV光源を生成する技術を開発した主要なEUVシステムの供給者です。
タイプ洞察
ファウンドリセグメントが市場で最大のシェアを持ち、予測期間中にCAGRは17.19%で成長すると予測されています。EUVリソグラフィの需要は、Samsungや台湾半導体製造会社(TSMC)などのさまざまなファウンドリによるチップ製造およびウエハー製造におけるこの技術の採用により拡大しています。TSMCは2022年末までに3nm製品の大量生産を開始し、国際ファウンドリ市場での支配を目指しています。Samsung Electronicsも、EUVリソグラフィ技術を用いて2030年までにTSMCを超える計画をしています。
統合デバイスメーカー(IDM)は、集積回路(IC)を製造、設計、販売する半導体企業です。伝統的なIDMは、自社ブランドのチップを所有し、ICを内部で設計し、製造施設を持っています。しかし、市場の進展は、IDM企業による研究開発(R&D)活動の強化や、技術的に進んだ半導体IC、センサー、RFID回路、システムオンチップの開発に対する投資の増加によって進んでいます。業界の参加者は、IC製造施設の改善に強く焦点を当てており、これにより半導体製造機器の需要が増加すると予測されています。
地域洞察
台湾は最も重要な収益貢献国であり、予測期間中にCAGRは18.44%で成長すると見込まれています。台湾は国際市場での優位性を持ち、TSMCの台湾への拡大やEUVリソグラフィ技術への投資の増加により、EUVリソグラフィ市場が拡大しています。この国はアジア太平洋地域におけるEUVリソグラフィの最大の収益シェアを持っています。例えば、Micron Technologyは2021年9月にASMLの最新リソグラフィ機器NXE:3600Dの導入を決定しました。また、Micron Technologyは台湾のDRAM製造施設にも同様のEUVリソグラフィ機器を設置する予定です。
韓国の市場動向
韓国は予測期間中にCAGRが16.98%で成長すると予測されています。韓国は半導体のジオメトリが縮小する中でEUVリソグラフィ技術の採用が重要であることを認識しています。AIや5G、自動車などの次世代アプリケーションにおいて、ウエハー上の複雑なパターンの縮小を可能にする理想的かつ効果的な選択肢を提供します。ASMLは2021年11月に、2024年までに韓国にリソグラフィクラスターを設立するために2400億ウォン(約2億米ドル)を投資する契約を結びました。
アメリカは、技術革新が進む中でEUVリソグラフィシステムの重要な市場となっています。AI、5G接続、拡張現実などのシステムに対するマイクロチップの需要が増加しており、国のEUVリソグラフィ市場におけるプレーヤーにとって大きな機会を生み出しています。また、オランダ、中国、ドイツ、日本なども関連地域として挙げられます。
主要企業および新興企業
– ASML Holding NV
– NTT Advanced Technology Corporation
– Intel Corporation
– 台湾半導体製造会社(TSMC)
– Samsung Electronics Co. Ltd
– Toppan Photomasks Inc.
– Ushio Inc.
業界の主な動向
2026年6月、ASMLは次世代EUVシステムを進化させ、先進的な半導体製造プロセスを支援するための極紫外線リソグラフィ技術のロードマップを拡張しました。2026年5月、Intelは次世代リソグラフィ技術の採用を増やし、先進的なプロセスノードを支援するためにEUVシステムを導入しました。
報告範囲
– 製品タイプ別
– 光源
– ミラー
– マスク
– タイプ別
– ファウンドリ
– 統合デバイスメーカー(IDM)
カバレッジ地域
– 北米
– 米国
– カナダ
– ヨーロッパ
– 英国
– ドイツ
– フランス
– スペイン
– イタリア
– ロシア
– 北欧
– ベネルクス
– アジア太平洋地域
– 中国
– 韓国
– 日本
– インド
– オーストラリア
– 台湾
– 東南アジア
– 中東およびアフリカ
– UAE
– トルコ
– サウジアラビア
– 南アフリカ
– エジプト
– ナイジェリア
– ラテンアメリカ
– ブラジル
– メキシコ
– アルゼンチン
– チリ
– コロンビア
競争環境
ASML Holding NV、NTT Advanced Technology Corporation、Intel Corporation、台湾半導体製造会社(TSMC)、Samsung Electronics Co. Ltdなどが市場をリードしています。
よくある質問(FAQ)
– 現在の極紫外線リソグラフィ市場の価値は?
– 極紫外線リソグラフィ市場は2026年に259.5億米ドルと評価され、2034年までに546.6億米ドルに達する見込みです。
– 2025年に極紫外線リソグラフィ市場を支配した地域は?
– 2025年には台湾が31.5%のシェアを持って市場を支配しました。
– 極紫外線リソグラフィ市場の主要企業は?
– ASML Holding NV、NTT Advanced Technology Corporation、Intel Corporation、台湾半導体製造会社(TSMC)、Samsung Electronics Co. Ltdが主要企業です。
著者について
Tejas Zamdeは、テクノロジー、半導体、電子機器、自動車セクターにおいて2年以上の経験を持つ市場調査の専門家です。市場評価、競争情報、業界分析、市場規模、需要分析、戦略研究を専門としています。彼は、技術動向、市場ダイナミクス、規制の発展、供給と需要のパターン、バリューチェーン、競争環境の分析を行い、クライアントに機会評価、顧客セグメンテーション、競争ベンチマーキング、成長戦略の開発を支援しています。