半導体化学気相成長（CVD）装置市場の規模と展望、2024-2032

2023年の世界の半導体化学気相成長（CVD）装置市場規模は143.4億米ドルと評価されており、2032年には301.3億米ドルに達すると予測されています。この期間中、年平均成長率（CAGR）は8.6%になる見込みです。半導体技術の継続的な進展、特に5G、AI、IoT、自動車電子機器などの分野では、高性能なチップや部品を製造するための先進的なCVD装置が必要とされています。これらの技術は、CVD装置が提供する高度な材料や薄膜堆積プロセスに依存しています。化学気相成長（CVD）は、優れた品質と機能性を持つ固体材料を生成するために使用される真空堆積プロセスであり、半導体セクターでは薄いシートを作成するために広く利用されています。これらの材料は通常、他の材料よりも堅牢で、高純度です。コーティング、エレクトロニクス、触媒など、さまざまな用途で広く使用されています。

半導体化学気相成長（CVD）装置の成長を促進する主な要因の一つは、半導体装置の需要の高まりです。その他の重要な要因には、半導体産業の成長、電子機器に対する人口の需要、半導体装置への投資の増加、CVD装置の開発、そしてクロム6に関する環境規制の強化があります。また、予測期間中には、太陽電池の需要の増加、発展途上国におけるエンドユーザー産業の増加、研究開発活動の進展がCVD装置市場の成長を促進することが期待されています。

半導体は、高度なマイクロエレクトロニクス回路に統合されることで、コスト効率よく高性能な計算、操作制御、入力・出力管理、データ処理、ストレージ、センシング、無線通信、効率向上、電力管理などの機能を提供します。半導体産業は、急速な革新により、より安価で飛躍的に進化した製品を生産できるようになっています。特に、過去1年間の消費者行動の急激な変化は、世界の技術への関心を高めました。パンデミックによる制約に対する反応として、新たな仕事や学習の環境を支えるための設備やインフラの需要が急増しました。政府や業界の関係者は、マイクロエレクトロニクス分野の進展を注視しており、これがIoT市場に混乱と成長をもたらす可能性があります。仮想現実や拡張現実技術の使用が増えることで、マイクロエレクトロニクスの研究開発（R&D）が拡大するかもしれません。

化学気相成長（CVD）技術は、さまざまな用途のためのセラミックフィルムやコーティングを製造するための急速に進化している技術です。電気自動車用バッテリー部品の開発と生産に伴い、カーボンナノチューブ（CNT）、グラフェン、シリコンナノワイヤ（Si-NWs）などのナノテクノロジー材料の需要が高まっています。ウェブ統合型の無線医療機器やウェアラブルデバイス、半導体を利用した臓器や医療機器の3Dプリントは、将来の医療提供方法を新しく創造的なものにする重要な要因となります。現代のネットワーク化された自動運転車は、最新の技術機能を持つ3000個以上のチップを搭載することができます。半導体は、従来の物理的な環境を超えた通信ネットワークを維持するために必要な技術基盤を支えます。現在のパンデミックによって強制された「リモート全般」環境において、ビジネス、学習、エンターテインメント、友人や家族とのつながりを支えるために不可欠です。

世界中の多くのスマートシティは、市民のための市のサービスや重要な市民インフラを改善することに取り組んでいます。そのためには、市民とさまざまなデバイスを接続する必要があり、これにより相互接続されたインフラを実現します。半導体は、これらの相互接続されたインフラを支える役割を果たします。したがって、これらすべてのアプリケーションが市場セグメントの成長を促進しています。

半導体の製造に必要なCVD装置の設置は難しく、高価です。ファウンドリやアウトソース半導体アセンブリとテスト（OSAT）企業は、増大するチップ需要に応じて生産を拡大し続けており、資本支出にさらなる圧力がかかることを予想しています。新しいファウンドリの建設には150億～200億米ドルの費用がかかり、相当な製造専門知識と強力なインフラが必要です。バックエンドの組立、パッケージング、テスト施設には50億～70億米ドルかかります。さらに、企業は収益の大部分を資本支出やR&Dに投資しています。企業は競争力を維持するために、常に収益のかなりの割合をR&Dや新しいプラント、設備に投資しなければなりません。業界の技術変化のペースは、企業により複雑な設計やプロセステクノロジーを開発し、より小さな特徴サイズで部品を製造できる生産機械を導入することを要求します。半導体産業協会（SIA）によれば、最先端の半導体部品を設計・製造する能力は、業界全体の投資率が売上の約30%に達することを継続的にコミットすることによってのみ維持されます。これらすべての要因が市場成長を妨げています。

市場ではさまざまな研究活動が見られ、CVD装置への投資を促進する要因が数多く存在します。たとえば、2021年12月、Zhaolong Chen氏と中国、イギリス、シンガポールの国際研究チームは、サファイアウエハ上に高度に配向した単層グラフェンを直接生成する手法を文書化しました。研究チームは、高温での電磁誘導CVDを用いた開発戦略を確立しました。この方法により、キャリア移動度が大幅に向上し、シート抵抗が低下したグラフェン層が得られました。さらに、2020年7月、Agnitronは、二重用途のAgilis機器を使用した金属有機化学気相成長（MOCVD）による半導体材料ガリウム酸化物の製造技術を開発しました。この手法は、必要に応じて異なる材料の置換も可能にします。これらの研究活動は、市場成長の大きな可能性を提供します。

地域別に見ると、世界の半導体化学気相成長（CVD）装置市場は、アジア太平洋、北アメリカ、ヨーロッパ、その他の地域に分かれています。アジア太平洋地域が市場を支配しており、予測期間中のCAGRは9.1%と予想されています。電気自動車の需要の増加が、APAC自動車用半導体市場の急成長を促進することが期待されています。自動運転車は、主要な自動車製造国で多くの購入者を惹きつけており、自動車メーカーは引き続き革新を行い、製造・改善を進める必要があります。インドの経済は世界で最も急成長している国の一つとなっており、同国の自動車用半導体市場は今後数年で急成長することが予測されています。今後数年内に、自動車産業を支える強力な半導体R&Dインフラが、インドの半導体市場に新たな機会を創出するでしょう。

北アメリカは第2の地域であり、2031年までに30億米ドルの予測値に達する見込みで、CAGRは6.9%です。貿易の緊張や国家安全保障への懸念が悪化する中、アメリカは韓国、台湾、中国に対して半導体生産で後れを取らないよう新たな計画を策定しています。北アメリカでの電子機器部門や半導体ソリューションの需要増加は、業界の前進を促進するでしょう。堆積装置は、銅電極や高介電体ゲートスタック、銅バリア/シード層など、さまざまな半導体カテゴリーを製造します。自動車産業における電子部品の需要増加は、半導体需要を押し上げ、化学気相成長市場に好影響を与えると予想されています。数十年にわたり、アメリカ企業は現代技術を支えるプロセッサの開発の最前線に立っています。アメリカの半導体産業の優位性は、国の経済的支配力と技術的な優位性の大きな要因となっています。アメリカの半導体産業は、AIや量子コンピューティング、5Gなどの先端技術において、依然として世界的なリーダーシップを維持しています。将来技術の台頭による半導体チップの需要の活発化は、地域のCVD機器の需要を直接的に喚起するでしょう。

ヨーロッパは第3の地域で、多くの大手・中堅の半導体産業が存在します。フィリップス半導体、STマイクロエレクトロニクス、インフィニオンテクノロジーズなどが、ヨーロッパの主要な半導体製造企業です。世界が技術に依存するようになるにつれて、半導体製造業者や小売業者にとっての潜在市場は引き続き増加し、それに伴いヨーロッパにおける化学気相成長市場も成長します。EUは、同国の最も著名なビジネスの中核技術をアメリカやアジアに依存しないよう、ヨーロッパに先端的な半導体工場の建設を検討しています。EUは、10nm未満の特徴を持つ半導体を製造する方法や、最終的には2nmのチップを製造する方法を模索しています。これは、5Gワイヤレスシステムや接続された車両、高性能コンピューティングなどに必要なチップを台湾などの国に依存しないようにするためのものです。たとえば、TSMCの最も裕福な顧客はアメリカに本社を置くAppleであり、ヨーロッパの顧客はそれほど先進的でないチップを購入する自動車メーカーが中心です。2021年第1四半期には、ヨーロッパと中東の顧客がTSMCの収益のわずか6%を占め、北アメリカからの売上が67%、アジア太平洋からの売上が17%であったことが明らかです。また、国内の投資の増加も市場成長率に影響を与えるでしょう。

グローバルな半導体化学気相成長（CVD）装置市場は、用途や地域によってセグメント化されています。用途別では、ファウンドリ、集積デバイスメーカー（IDM）、メモリメーカーに分かれています。集積デバイスメーカー（IDM）が市場を支配しており、予測期間中のCAGRは9%と予想されています。集積デバイスメーカー（IDM）には、ロジック、センサー、オプトエレクトロニクス、離散部品が含まれます（メモリメーカーを除く）。集積デバイスメーカーは、集積回路（IC）の設計と販売を行っています。従来のIDMは、ブランドチップをファブリケーション施設で製造し、設計も行います。他のメーカーは、平面アーキテクチャを放棄し、ロジックとメモリのために複雑な三次元（3D）構造を追求していますが、IDMは10nmから5nm、さらには3nmまでのノードスケーリングを行っています。集積回路の製造において、薄膜堆積は重要な段階です。薄膜成長に最も一般的に使用される方法がCVDです。CVDでは、前駆体と反応物がプロセスチャンバーで混合され、定常状態で供給され、ウエハ上にフィルムを形成します。期間中、消費者電子機器やマイクロエレクトロニクスの販売の増加に伴い、半導体ICの需要が高まると見込まれています。しかし、半導体ICの需要増加は、半導体デバイスメーカーの製造能力を向上させ、化学気相成長の市場需要を増加させる可能性があります。第二の主要セクターはメモリメーカーです。メモリ半導体は半導体業界の主要な製品カテゴリーの一つです。

Report Coverage & Structure

半導体化学気相成長（CVD）装置市場レポートの構造概要

本レポートは、半導体化学気相成長（CVD）装置市場に関する詳細な分析を提供しており、以下の主要なセクションに分かれています。

1. はじめに

レポートの冒頭では、半導体化学気相成長（CVD）装置市場の概要と目的が示されています。このセクションには、調査範囲、調査目標、制約、および仮定が含まれています。

2. 市場機会評価

このセクションでは、新興地域や国、新興企業、用途に関する市場機会が評価されています。これにより、各地域での成長の可能性を理解することができます。

3. 市場動向と要因

• 市場動向: 最新の市場動向と技術革新について分析します。
• ドライバー: 市場を推進する要因に焦点を当てます。
• 警告要因: 市場に影響を与える可能性のあるリスクについて説明します。
• マクロ経済指標: 経済全体の影響を考慮します。
• 地政学的影響: 国際的な政治状況が市場に与える影響について検討します。

4. 市場評価

このセクションでは、ポーターのファイブフォース分析やバリューチェーン分析を通じて市場の競争状況を評価しています。

5. 規制フレームワーク

地域ごとの規制環境を分析し、北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中東・アフリカ、ラテンアメリカの各地域における規制の違いを示します。

6. ESGトレンド

環境、社会、ガバナンス（ESG）に関連するトレンドについても言及し、企業がどのようにこれらの要素を考慮しているかを示します。

7. 市場サイズ分析

半導体化学気相成長（CVD）装置市場の規模を、アプリケーション別および製品タイプ別に分析します。具体的には、ファウンドリ、IDM（集積デバイスメーカー）、メモリ製造業者などのセグメントに分けられています。

8. 地域市場分析

• 北米市場分析: アプリケーションおよび製品タイプ別に詳細に分析。
• ヨーロッパ市場分析: 各国（イギリス、ドイツ、フランスなど）のデータを含む。
• アジア太平洋市場分析: 中国、日本、韓国、インドなどの主要市場を含む。
• 中東・アフリカ市場分析: 各国の動向を評価。
• ラテンアメリカ市場分析: 地域特有の市場動向を考察。

このレポートは、半導体化学気相成長（CVD）装置市場の包括的な理解を提供し、業界のプレイヤーが戦略を策定するための重要な情報を提供します。